氧化鈰拋光墊

氧化鈰拋光墊。尺寸定做，并可根據(jù)需要進(jìn)行開槽加工。

2015-01-15 0

日本精拋機(jī) 薄化減薄

LCD玻璃薄化減薄。 主要技術(shù)參數(shù) 1、? 拋光盤直徑：????????????? Φ1300mm????? 2、? 拋光頭直徑：????????????? Φ950mm?????????? 3、? 拋光頭移動幅度：????????±350mm????????? 4、? 拋光盤轉(zhuǎn)速：????????????? 20～50rpm??? 5、? 拋光盤相對拋光頭的偏心量：50～300mm

2015-01-15 0

-玻璃吸附墊

?特別為半導(dǎo)體硅片，液晶玻璃基板的無蠟固定保持開發(fā)之產(chǎn)品�？梢愿鶕�(jù)研磨條件選擇較適合的產(chǎn)品，取得極高的平坦性能。有無框型插入式樣和有框型模板式樣，并可提供多種規(guī)格（含卷材）供選擇。

2015-01-15 0

供應(yīng)拋光墊 精拋墊

FJ-1000系列拋光墊以硅片研磨為開發(fā)起點(diǎn)，適用于所有半導(dǎo)體材料，金屬，玻璃等各材質(zhì)的超精密研磨領(lǐng)域�？蛇_(dá)到無缺陷（無劃傷），高平坦度，高精度的研磨表面。 FJ-1010適用于硅片，金屬，半導(dǎo)體材料，F(xiàn)DP，光學(xué)鏡頭等一次研磨的不織布型拋光墊。有硬質(zhì)，軟質(zhì)等各種規(guī)格可供選擇。 FJ-1020適用于半導(dǎo)體硅片，水晶振子光學(xué)鏡頭等研磨使用，不含填充劑之硬質(zhì)聚氨酯拋光墊半導(dǎo)體材料，F(xiàn)DP，光學(xué)

2015-01-15 面議/張

聚氨脂拋光墊-精拋墊-

FinePoly系列拋關(guān)墊用于對玻璃，晶片，金屬LOGO等產(chǎn)品的半精拋或精拋，以獲得沒有缺陷的表面質(zhì)量。可以對陶瓷，砷化稼，磷化銦，玻璃硬盤，光學(xué)玻璃，金屬制品，藍(lán)寶石晶片，Silicon Wafer等工件進(jìn)行精密終道拋光。

2015-01-15 面議/張

SUBA 800拋光墊

SUBA 800/600 等系列拋光墊。（***原廠產(chǎn)品） 主要尺寸：32吋（820mm），36吋（930mm），48吋（1200mm）等系列。 可根據(jù)客戶要求開槽加工。 SUBA 系列拋光墊片用于半導(dǎo)體晶片的粗拋和中拋，具有高平坦度、高拋光速率和更低晶片缺陷等優(yōu)點(diǎn)�？捎糜趯�硅片、藍(lán)寶石襯底片、砷化鎵、光學(xué)玻璃、陶瓷等材料的拋光。 主要參數(shù)： 型號 SUBA

2014-08-01 0