TE98

TE-98氧化鈰拋光粉 ?? ??? ? 概 要 TE-98? 拋光粉是以稀土元素氧化鈰爲(wèi)主要成份、經(jīng)日本技術(shù)生産而成。 TE-98氧化鈰拋光粉主要用於光學(xué)產(chǎn)品研磨、磨耗度450以下軟材質(zhì)精拋。 TE-98氧化鈰拋光粉的原料爲(wèi)碳酸稀土，和用氟碳鈰精礦做的拋光粉比較，具有氧化鈰濃度高、切削力大、耐久性長等特點(diǎn)。 ? 用 途 精 度要求高的光學(xué)研磨、拋光，適用于光學(xué)元件等； ?同時(shí)適用于表面要求高、

2023-03-14 面議/公斤

索爾維1663，1650

進(jìn)口索爾維1663，1650拋光粉 品質(zhì)穩(wěn)定，懸浮性好，顆粒均勻。

2023-03-14 面議/公斤

ZL-201

201氧化鈰拋光粉 ?? ? ? 概 要 201? 拋光粉是以稀土元素氧化鈰爲(wèi)主要成份、經(jīng)日本技術(shù)生産而成。201氧化鈰拋光粉主要用於各類玻璃材質(zhì)，磨耗度100以上600以下各類光學(xué)產(chǎn)品冷加工 201? 氧化鈰拋光粉的原料爲(wèi)碳酸鑭鈰稀土，精選原材，具有氧化鈰濃度高、切削力均衡、懸浮性好、耐久性長、研磨精度高等特點(diǎn)。 ? 用 途 用于光學(xué)冷加工，光學(xué)鏡頭鏡片，棱鏡等 特 徵 切削力均衡、懸浮好、不發(fā)

2023-03-14 面議/公斤

ZL300手機(jī)保護(hù)片掃光粉

ZL300氧化鈰拋光粉 ?? ? ? 概 要 ZL300? 拋光粉是以稀土元素氧化鈰爲(wèi)主要成份、經(jīng)日本技術(shù)生産而成。ZL300氧化鈰拋光粉主要用於各類玻璃保護(hù)片，掃光速度快 ZL300? 氧化鈰拋光粉的原料爲(wèi)碳酸鑭鈰稀土，精選原材，具有氧化鈰濃度高、切削力均衡、懸浮性好、耐久性長、掃光精度高等特點(diǎn)。 ? 用 途 用于手機(jī)保護(hù)片的掃光 特 徵 切削力均衡、不沉淀、不板結(jié)，懸浮好、不發(fā)生劃傷。 ? 産

2023-03-14 面議/公斤

ZL-800微晶玻璃拋光粉

ZL-800氧化鈰拋光粉 ?? ? ? 概 要 ZL800? 拋光粉是以稀土元素氧化鈰爲(wèi)主要成份、經(jīng)日本技術(shù)生産而成。ZL800氧化鈰拋光粉主要用於微晶玻璃蓋板的研磨，良率90%以上，如華為P50陶瓷蓋板 ZL800? 氧化鈰拋光粉的原料爲(wèi)碳酸鑭鈰稀土，精選原材，具有氧化鈰濃度高、切削力均衡、懸浮性好、耐久性長、掃光精度高。 ? 用 途 微晶玻璃蓋板拋光 特 徵 切削力大，劃傷少，不沉淀不板結(jié)，磨

2023-03-14 面議/公斤

ZL-600蓋板掃光粉

ZL-600氧化鈰拋光粉 ?? ? ? 概 要 ZL600? 拋光粉是以稀土元素氧化鈰爲(wèi)主要成份、經(jīng)日本技術(shù)生産而成。ZL600氧化鈰拋光粉主要用於各類玻璃材質(zhì)3D、2.5D等大小蓋板掃光、平磨；良率90以上 ZL600氧化鈰拋光粉的原料爲(wèi)碳酸鑭鈰稀土，精選原材，具有氧化鈰濃度高、切削力均衡、懸浮性好、耐久性長、掃光精度高等特點(diǎn)。 ? 用 途 要求較高蓋板掃光、平磨等平面玻璃表面處理 特 徵 切削

2023-03-14 面議/公斤