北京蒙泰有研技術開發(fā)中心,成立于1999年，專業(yè)從事光學鍍膜材料開發(fā)生產。我中心有光學鍍膜材料專家教授數名，堅實的技術陣容為我們的發(fā)展奠定了良好的基礎。 在有關科研單位大專院校的協(xié)助下，我們開發(fā)了七十余種鍍膜材料，并建立了一套穩(wěn)定的生產工藝形成了較強的科研生產能力。產品包括金屬基，氧化物，氟化物及其它化合物類型的光學鍍膜材料，適用于電子槍和熱蒸發(fā)鍍膜。所有產品嚴格按照標準生產，部分產品銷往臺灣，日本，美國、韓國等國家及地區(qū)。 主要用途： 鍍制：復合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，激光裝置濾光片，保護膜，透明導電膜，變色膜，優(yōu)良的寬帶增透膜，磁性薄膜，可見光區(qū)增透膜，紅外增透膜，分光膜，多層膜，高反射膜，電阻膜，熱反射膜，冷光燈、冷光碗，各種鏡片鍍膜等。 BEIJING MOUNTAIN TECHNICAL DEVELOPMENT CENTER FOR NON―FERROUS METALS 北京蒙泰有研技術開發(fā)中心產品介紹： 一.、光學鍍膜材料（純度：99.9%-99.9999%） 1. 氧化物： 一氧化硅SiO，二氧化鉿HfO2，二硼化鉿，氯氧化鉿，二氧化鋯ZrO2，二氧化鈦TiO2，一氧化鈦TiO，二氧化硅SiO2，三氧化二鈦Ti2O3，五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鉭Ta2O5，五氧化二鈮Nb2O5，三氧化二鋁Al2O3，三氧化二鈧Sc2O3，三氧化二銦In2O3，二鈦酸鐠Pr(TiO3)2，二氧化鈰CeO2，氧化鎂MgO，三氧化鎢WO3，氧化釤Sm2O3，氧化釹Nd2O3，氧化鉍Bi2O3，氧化鐠Pr6O11，氧化銻Sb2O3，氧化釩V2O5，氧化鎳NiO，氧化鋅ZnO，氧化鐵Fe2O3，氧化鉻Cr2O3，氧化銅CuO等。 2. 氟化物： 氟化鎂MgF2，氟化鐿YbF3，氟化釔LaF3，氟化鏑DyF3，氟化釹NdF3，氟化鉺ErF3，氟化鉀KF，氟化鍶SrF3，氟化釤SmF3，氟化鈉NaF，氟化鋇BaF2，氟化鈰CeF3，氟化鉛等。 4. 混合料： 氧化鋯氧化鈦混合料，氧化鋯氧化鉭混合料，氧化鈦氧化鉭混合料，氧化鋯氧化釔混合料，氧化鈦氧化鈮混合料，氧化鋯氧化鋁混合料，氧化鎂氧化鋁混合料，氧化銦氧化錫混合料，氧化錫氧化銦混合料，氟化鈰氟化鈣混合料等混合料 3. 金屬類： 高純鋁絲（5N）Al，高純鋁粒Al、高純鋁片Al、高純鋁柱Al、高純鉻粒Cr，高純鉻粉Cr，鉻條Cr，水銀條Cr，高純金絲Au，高純金片Au，高純金粉Au，高純金粒Au,高純銀絲Ag、高純銀粒Ag、高純銀粉Ag、高純銀片Ag、高純鉑絲Pt，高純鉿粉Hf，高純鉿絲Hf、高純鉿粒Hf，高純鎢粒w、高純鉬粒Mo，高純單晶硅Si，高純多晶硅、高純鐵粒Fe、高純鐵粉，高純鋯絲Zr，高純鋯粉，高純鋯粒，高純鋯塊，高純碲粒（6N）Te，高純鍺粒（6N）Ge，高純鈦粉Ti，高純鈦粒、高純鎳粉Ni，高純鎳絲Ni、高純鎳片Ni、高純鎳柱Ni、高純鉭片Ta、高純鉭粉Ta、高純鉭絲Ta、高純鉭粒Ta、高純鎳鉻絲NiCr，高純鎳鉻粒NiCr，灰色熱反射膜合金，金紅膜合金。 5. 其他化合物： 鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鑭LaTiO3，硫化鋅ZnS，冰晶石Na3AlF6，硒化鋅ZnSe，硫化鎘。 6. 輔料： 鉬片，鉬舟、鉭片、鎢片、鎢舟、鎢絞絲。 二、靶材（純度：99.9%-99.999%） 1. 金屬靶材： 鎳靶Ni、鈦靶Ti、鋅靶Zn、鉻靶Cr、鎂靶Mg、鈮靶Nb、錫靶Sn、鋁靶Al、銦靶In、鐵靶Fe、鋯鋁靶ZrAl、鈦鋁靶TiAl、鋯靶Zr、鋁硅靶AlSi、硅靶Si、銅靶Cr、鉭靶Ta、鍺靶Ge、銀靶Ag、鈷靶Co、金靶Au、釓靶Gd、鑭靶La、釔靶Y、鈰靶Ce、鎢靶w、不銹鋼靶、鎳鉻靶NiCr、鉿靶Hf、鉬靶Mo、鐵鎳靶FeNi、鎢靶W等 2. 陶瓷靶材： ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、氧化鋁靶、硫化鋅靶、硫化鋅二氧化硅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、氧化鈮靶、二氧化鈦靶、五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、三氧化二鋁靶、二氧化鉿靶、靶材等。

北京蒙泰有研技術開發(fā)中心,成立于1999年，有經驗從事光學鍍膜材料開發(fā)生產。我中心有光學鍍膜材料相關人士教授數名，堅實的技術陣容為我們的發(fā)展奠定了良好的基礎。 在有關科研單位大專院校的協(xié)助下，我們開發(fā)了七十余種鍍膜材料，并建立了一套穩(wěn)定的生產工藝形成了較強的科研生產能力。產品包括金屬基，氧化物，氟化物及其它化合物類型的光學鍍膜材料，適用于電子槍和熱蒸發(fā)鍍膜。所有產品嚴格按照標準生產，部分產品銷往寶島，日本，美國、韓國等國家及地區(qū)。 主要用途： 鍍制：復合膜，彩色膜,增透膜，透紫外膜，激光裝置濾光片，保護膜，透明導電膜，變色膜，優(yōu)良的寬帶增透膜，磁性薄膜，可見光區(qū)增透膜，紅外增透膜，分光膜，多層膜，高反射膜，電阻膜，熱反射膜，冷光燈、冷光碗，各種鏡片鍍膜等。 BEIJING MOUNTAIN TECHNICAL DEVELOPMENT CENTER FOR NON―FERROUS METALS 北京蒙泰有研技術開發(fā)中心產品介紹： 一.、光學鍍膜材料（純度：99.9%-99.9999%） 1. 氧化物： 一氧化硅SiO，二氧化鉿HfO2，二硼化鉿，氯氧化鉿，二氧化鋯ZrO2，二氧化鈦TiO2，一氧化鈦TiO，二氧化硅SiO2，三氧化二鈦Ti2O3，五氧化三鈦Ti3O5，五氧化二鉭Ta2O5，五氧化二鈮Nb2O5，三氧化二鋁Al2O3，三氧化二鈧Sc2O3，三氧化二銦In2O3，二鈦酸鐠Pr(TiO3)2，二氧化鈰CeO2，氧化鎂MgO，三氧化鎢WO3，氧化釤Sm2O3，氧化釹Nd2O3，氧化鉍Bi2O3，氧化鐠Pr6O11，氧化銻Sb2O3，氧化釩V2O5，氧化鎳NiO，氧化鋅ZnO，氧化鐵Fe2O3，氧化鉻Cr2O3，氧化銅CuO等。 2. 氟化物： 氟化鎂MgF2，氟化鐿YbF3，氟化釔LaF3，氟化鏑DyF3，氟化釹NdF3，氟化鉺ErF3，氟化鉀KF，氟化鍶SrF3，氟化釤SmF3，氟化鈉NaF，氟化鋇BaF2，氟化鈰CeF3，氟化鉛等。 4. 混合料： 氧化鋯氧化鈦混合料，氧化鋯氧化鉭混合料，氧化鈦氧化鉭混合料，氧化鋯氧化釔混合料，氧化鈦氧化鈮混合料，氧化鋯氧化鋁混合料，氧化鎂氧化鋁混合料，氧化銦氧化錫混合料，氧化錫氧化銦混合料，氟化鈰氟化鈣混合料等混合料 3. 金屬類： 高純鋁絲（5N）Al，高純鋁粒Al、高純鋁片Al、高純鋁柱Al、高純鉻粒Cr，高純鉻粉Cr，鉻條Cr，水銀條Cr，高純金絲Au，高純金片Au，高純金粉Au，高純金粒Au,高純銀絲Ag、高純銀粒Ag、高純銀粉Ag、高純銀片Ag、高純鉑絲Pt，高純鉿粉Hf，高純鉿絲Hf、高純鉿粒Hf，高純鎢粒w、高純鉬粒Mo，高純單晶硅Si，高純多晶硅、高純鐵粒Fe、高純鐵粉，高純鋯絲Zr，高純鋯粉，高純鋯粒，高純鋯塊，高純碲粒（6N）Te，高純鍺粒（6N）Ge，高純鈦粉Ti，高純鈦粒、高純鎳粉Ni，高純鎳絲Ni、高純鎳片Ni、高純鎳柱Ni、高純鉭片Ta、高純鉭粉Ta、高純鉭絲Ta、高純鉭粒Ta、高純鎳鉻絲NiCr，高純鎳鉻粒NiCr，灰色熱反射膜合金，金紅膜合金。 5. 其他化合物： 鈦酸鋇BaTiO3，鈦酸鐠PrTiO3，鈦酸鍶SrTiO3，鈦酸鑭LaTiO3，硫化鋅ZnS，冰晶石Na3AlF6，硒化鋅ZnSe，硫化鎘。 6. 輔料： 鉬片，鉬舟、鉭片、鎢片、鎢舟、鎢絞絲。 二、靶材（純度：99.9%-99.999%） 1. 金屬靶材： 鎳靶Ni、鈦靶Ti、鋅靶Zn、鉻靶Cr、鎂靶Mg、鈮靶Nb、錫靶Sn、鋁靶Al、銦靶In、鐵靶Fe、鋯鋁靶ZrAl、鈦鋁靶TiAl、鋯靶Zr、鋁硅靶AlSi、硅靶Si、銅靶Cr、鉭靶Ta、鍺靶Ge、銀靶Ag、鈷靶Co、金靶Au、釓靶Gd、鑭靶La、釔靶Y、鈰靶Ce、鎢靶w、不銹鋼靶、鎳鉻靶NiCr、鉿靶Hf、鉬靶Mo、鐵鎳靶FeNi、鎢靶W等 2. 陶瓷靶材： ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、氧化鋁靶、硫化鋅靶、硫化鋅二氧化硅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、氧化鈮靶、二氧化鈦靶、五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、三氧化二鋁靶、二氧化鉿靶、靶材等。