銀Ag鉑Pt金Au釕Ru鈀Pd銥Ir貨

高純金屬類：?高純鋁,高純鋁絲，高純鋁粒，高純鋁片，高純鋁柱，高純鉻粒，高純鉻粉，鉻條，高純金絲，高純金片，高純金，高純金粒，高純銀絲，高純銀粒，高純銀,高純銀片，高純鉑絲，高純鉿粉，高純鉿絲，高純鉿粒，高純鎢粒，高純鉬粒，高純單晶硅，高純多晶硅，高純鍺粒，,高純錳粒，高純鈷，高純鈷粒，高純鉬，高純鉬片，高純鈮，高純錫粒，高純錫絲，高純鎢粒，高純鋅粒，高純釩粒，高純鐵粒，高純鐵粉，海面鈦,高純鋯絲

2021-05-10 0

鑭La釓Gd鈰Ce鐠Pr釹Nd钷Pm稀

釹靶材 Nd 真空包裝 ?規(guī)格尺寸根據(jù)客戶需求制作高純度單質(zhì)金屬（純度：3N-6N）規(guī)格：粉末/顆粒/錠/絲/圓片/方形靶材金靶Au，銀靶Ag，鉬靶Mo，錳靶Mn，鈮靶Nb，鎳靶Ni，鋁靶Ag，硼靶B，鉍靶Bi，碳靶C，鉻靶Cr，銅靶Cu，鈷靶Co，鎘靶Cd，鈰靶Ce，鏑靶Dy，鉺靶Er，銪靶Eu，鐵靶Fe，釓靶Gd，鍺靶Ge，鉿靶Hf，銦靶In，銥靶Ir，鑭靶La，镥靶Lu，鎂靶Mg，鉬靶Mo，

2021-05-10 面議/片

IGZO靶材AZO靶ITO靶氧化鋅靶

我司主要通過氧氣充足燒結(jié)方法、熱等靜壓方法、真空熔煉等方法成型，其中氧氣充足燒結(jié)方法在國內(nèi)處於領(lǐng)先技術(shù)，根據(jù)客戶的具體要求加工各種材質(zhì)，各種規(guī)格的鍍膜材料，並為客戶提供技術(shù)上的服務(wù)與支援。本公司生產(chǎn)的真空濺射靶材及光學(xué)鍍膜材料主要應(yīng)用於：半導(dǎo)體晶片、裝飾和功能鍍膜工業(yè)、太陽能電池板、據(jù)儲(chǔ)存工業(yè)（光碟工業(yè)）、平板液晶顯示器（LCD）、光通訊工業(yè)、玻璃鍍膜（建築玻璃和汽車玻璃）工業(yè)、抗腐蝕抗磨損（表面

2020-01-06 0

鉬絲鉬舟鉬板材鉬材料鎢絲鎢

高純度金屬單質(zhì)包括金屬粉、金屬顆粒、金屬絲、金屬塊、金屬片等。產(chǎn)品包括：純鐵，銅，鋁，鉛，鋅，鎳，錫，鉻，釩，錳，鎂，鎘，鉍，銻，鈦，鋯，鉿，銦，硒，碲，鎵，鍺，錸，鎢，鉬，鉭，鈮，硼，硅，貴金屬等的錠，棒材，絲材，板材，帶材，箔材，顆粒，粉末。??????2?高純金屬靶材、合金靶材、陶瓷靶材、鍍膜材料。金屬靶材：鋁靶Al、銀靶Ag、鈷靶Co、鉻靶Cr、銅靶Cu、鎳靶Ni、鈦靶Ti、鋅靶Zn、鎂靶

2020-01-06 0

AZO靶材 日本日礦靶 韓國A

我司主要通過氧氣充足燒結(jié)方法、熱等靜壓方法、真空熔煉等方法成型，其中氧氣充足燒結(jié)方法在國內(nèi)處於領(lǐng)先技術(shù)，根據(jù)客戶的具體要求加工各種材質(zhì)，各種規(guī)格的鍍膜材料，並為客戶提供技術(shù)上的服務(wù)與支援。本公司生產(chǎn)的真空濺射靶材及光學(xué)鍍膜材料主要應(yīng)用於：半導(dǎo)體晶片、裝飾和功能鍍膜工業(yè)、太陽能電池板、據(jù)儲(chǔ)存工業(yè)（光碟工業(yè)）、平板液晶顯示器（LCD）、光通訊工業(yè)、玻璃鍍膜（建築玻璃和汽車玻璃）工業(yè)、抗腐蝕抗磨損（表面

2020-01-06 0

二氧化硅靶材SiO多晶硅靶N型

我司是專門從事光電新材料研發(fā)、生產(chǎn)與全球銷售為一體的高科技綜合性公司。由資深專家?guī)ьI(lǐng)著一支高素質(zhì)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)和經(jīng)驗(yàn)豐富的管理人員組成，並與上海各高校及海外公司有著多年的技術(shù)和人才合作。我司主要通過氧氣充足燒結(jié)方法、熱等靜壓方法、真空熔煉等方法成型，其中氧氣充足燒結(jié)方法在國內(nèi)處於領(lǐng)先技術(shù)，根據(jù)客戶的具體要求加工各種材質(zhì)，各種規(guī)格的鍍膜材料，並為客戶提供技術(shù)上的服務(wù)與支援。本公司生產(chǎn)的真空濺射靶材及光學(xué)

2020-01-06 0

銀Ag顆粒金Au顆粒鎳Ni顆粒鈦

主要產(chǎn)品： 1. 高純氧化物： 一氧化硅、SiO，二氧化鉿、HfO2，二硼化鉿，氯氧化鉿，二氧化鋯、ZrO2，二氧化鈦、TiO2，一氧化鈦、TiO，二氧化硅、SiO2，三氧化二鈦、Ti2O3，五氧化三鈦、Ti3O5，五氧化二鉭、Ta2O5，五氧化二鈮、Nb2O5，三氧化二鋁、Al2O3，三氧化二鈧、Sc2O3，三氧化二銦、In2O3，二鈦酸鐠、Pr(TiO3)2，二氧化鈰、CeO2，氧化鎂、Mg

2020-01-06 0

鎢絲W鉬帶鉬舟Mo銅絲Cu銀絲A

主要產(chǎn)品： 1. 高純氧化物： 一氧化硅、SiO，二氧化鉿、HfO2，二硼化鉿，氯氧化鉿，二氧化鋯、ZrO2，二氧化鈦、TiO2，一氧化鈦、TiO，二氧化硅、SiO2，三氧化二鈦、Ti2O3，五氧化三鈦、Ti3O5，五氧化二鉭、Ta2O5，五氧化二鈮、Nb2O5，三氧化二鋁、Al2O3，三氧化二鈧、Sc2O3，三氧化二銦、In2O3，二鈦酸鐠、Pr(TiO3)2，二氧化鈰、CeO2，氧化鎂、Mg

2019-12-06 0

鋱靶鏑靶鈥鉺靶銩靶鐿靶镥靶

我司主要通過氧氣充足燒結(jié)方法、熱等靜壓方法、真空熔煉等方法成型，其中氧氣充足燒結(jié)方法在國內(nèi)處於領(lǐng)先技術(shù)，根據(jù)客戶的具體要求加工各種材質(zhì)，各種規(guī)格的鍍膜材料，並為客戶提供技術(shù)上的服務(wù)與支援。本公司生產(chǎn)的真空濺射靶材及光學(xué)鍍膜材料主要應(yīng)用於：半導(dǎo)體晶片、裝飾和功能鍍膜工業(yè)、太陽能電池板、據(jù)儲(chǔ)存工業(yè)（光碟工業(yè)）、平板液晶顯示器（LCD）、光通訊工業(yè)、玻璃鍍膜（建築玻璃和汽車玻璃）工業(yè)、抗腐蝕抗磨損（表面

2019-12-06 0