納米二氧化硅拋光液的應(yīng)用

由于納米二氧化硅成本相對(duì)較低，且具有良好的分散性、機(jī)械磨損性，高度度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點(diǎn)，是一種性能優(yōu)良的CM P技術(shù)用的拋光材料.，因而常被用于金屬、藍(lán)寶石、單晶硅、微晶玻璃、光導(dǎo)攝像管等表面準(zhǔn)確拋光。

化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）技術(shù)是目前各類顯示屏、手機(jī)部件、藍(lán)寶石、不銹鋼、單晶硅片等領(lǐng)域使用廣泛的表面超準(zhǔn)確加工技術(shù)，研磨拋光材料是化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程中必不可少的一種耗材，常用的研拋材料有氧化鈰、氧化硅、氧化鋁和金剛石(鉆石)。氧化鈰主要用于玻璃晶體等拋光，金剛石與氧化鋁主要用于高硬度晶體的拋光，而納米二氧化硅拋光液主要用于許多材料表面準(zhǔn)確拋光。這幾種材料往往可以搭配使用，組成研磨-拋光的理想材料。本次介紹下納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）的應(yīng)用。

納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）應(yīng)用特性：

1、納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）由高純納米二氧化硅復(fù)合配置而成，通過(guò)高科技術(shù)分散成納米顆粒，高含量分散均勻的納米拋光液。

2、拋光速平坦度加工，拋光是利用SiO2等材料的均勻納米粒子，不會(huì)對(duì)加工件造成物理?yè)p傷，速率快，利用分散均勻大粒徑的膠體二氧化硅等粒子達(dá)到高速拋光的目的

3、高純度，拋光液不腐蝕設(shè)備，使用的安全性能高。

4、高達(dá)到高平坦化研磨加工。

5、有效減少拋光后的表面劃傷，降低拋光后的表面粗糙度。

   納米二氧化硅拋光液（VK-SP50W）使用范圍：

1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。

2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過(guò)程，適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。

3、用于晶圓的后道ＣＭＰ清洗等半導(dǎo)體器件的加工過(guò)程、平面顯示器、多晶化模組、微電機(jī)系統(tǒng)、光導(dǎo)攝像管等的加工過(guò)程。

4、廣泛用于CMP化學(xué)機(jī)械拋光，如：硅片、化合物晶體、準(zhǔn)確光學(xué)器件、硬盤盤片、寶石、大理石等納米級(jí)及亞納米級(jí)拋光加工。
5、本產(chǎn)品可以作為一種添加劑，也可應(yīng)用于水性高耐候石材保護(hù)液、水性膠粘劑與高耐候外墻涂料的添加劑等。

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