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什么是鍍膜玻璃 中性硅酮玻璃膠成分

來源:中國玻璃網 作者:xzq 2018/11/23 15:00:19

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        一些比較關注玻璃行業(yè)的朋友可能會經常聽人提到鍍膜玻璃。我們經常會接觸到各種類型的玻璃材料,但由于許多人對玻璃行業(yè)的了解并不夠深入,因而圍繞著它產生了各種各樣的問題。為了幫助大家更深一步了解什么是鍍膜玻璃,以及中性硅酮玻璃膠的成分,解決大家的疑惑,我們編撰了這篇文章,希望能夠有所幫助。

一、什么是鍍膜玻璃


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        鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜,以改變玻璃的光學性能,滿足某種特定要求.

        鍍膜玻璃按產品的不同特性,可分為以下幾類:熱反射玻璃、低輻射玻璃(Low-E)、導電膜玻璃等.熱反射玻璃一般是在玻璃表面鍍一層或多層諸如鉻、鈦或不銹鋼等金屬或其化合物組成的薄膜,使產品呈豐富的色彩,對于可見光有適當的透射率,對紅外線有較高的反射率,對紫外線有較高吸收率,因此,也稱為陽光控制玻璃,主要用于建筑和玻璃幕墻;低輻射玻璃是在玻璃表面鍍由多層銀、銅或錫等金屬或其化合物組成的薄膜系,產品對可見光有較高的透射率,對紅外線有很高的反射率,具有良好的隔熱性能,主要用于建筑和汽車、船舶等交通工具,由于膜層強度較差,一般都制成中空玻璃使用;導電膜玻璃是在玻璃表面涂敷氧化銦錫等導電薄膜,可用于玻璃的加熱、除霜、除霧以及用作液晶顯示屏等;

        鍍膜玻璃的生產方法很多,主要有真空磁控濺射法、真空蒸發(fā)法、化學氣相沉積法以及溶膠—凝膠法等.磁控濺射鍍膜玻璃利用磁控濺射技術可以設計制造多層復雜膜系,可在白色的玻璃基片上鍍出多種顏色,膜層的耐腐蝕和耐磨性能較好,是目前生產和使用較多的產品之一.真空蒸發(fā)鍍膜玻璃的品種和質量與磁控濺射鍍膜玻璃相比均存在一定差距,已逐步被真空濺射法取代.化學氣相沉積法是在浮法玻璃生產線上通入反應氣體在灼熱的玻璃表面分解,均勻地沉積在玻璃表面形成鍍膜玻璃.該方法的特點是設備投入少、易調控,產品成本低、化學穩(wěn)定性好,可進行熱加工,是目前更有發(fā)展前途的生產方法之一.溶膠—凝膠法生產鍍膜玻璃工藝簡單,穩(wěn)定性也好,不足之處是產品光透射比太高,裝飾性較差.

二、中性硅酮玻璃膠成分



        1、 底涂液常用丙酮、丁酮或丙醇.作用去除鋁合金表面的油污.

        2、 硅酮結構膠

        主要成份 農業(yè)生產體系羥基硅酮、農業(yè)生產體系甲基硅酮 、甲基硅烷、氣象二氧化硅 、碳酸鈣 、二丁基二月硅酸錫、氨基硅烷.

        產品無腐蝕,固化后為為硅酮橡膠.

        主要作用 玻璃與鋁合金粘接

        3、 硅酮耐候密封膠

        主要成份 農業(yè)生產體系羥基硅酮、農業(yè)生產體系甲基硅酮 、甲基硅烷、氣象二氧化硅 、碳酸鈣 、二丁基二月硅酸錫、氨基硅烷.中性固化,對金屬、鍍膜玻璃、混凝土、陶瓷、大理石、花崗巖等建筑材料無腐蝕性,具有優(yōu)越的耐候性能.主要作用 玻璃、石材、鋁板的接縫.


相關概念

玻璃

        玻璃是非晶無機非金屬材料,一般是用多種無機礦物(如石英砂、硼砂、硼酸、重晶石、碳酸鋇、石灰石、長石、純堿等)為主要原料,另外加入少量輔助原料制成的。它的主要成分為二氧化硅和其他氧化物。普通玻璃的化學組成是Na2SiO3、CaSiO3、SiO2或Na2O·CaO·6SiO2等,主要成分是硅酸鹽復鹽,是一種無規(guī)則結構的非晶態(tài)固體。廣泛應用于建筑物,用來隔風透光,屬于混合物。另有混入了某些金屬的氧化物或者鹽類而顯現(xiàn)出顏色的有色玻璃,和通過物理或者化學的方法制得的鋼化玻璃等。有時把一些透明的塑料(如聚甲基丙烯酸甲酯)也稱作農業(yè)生產體系玻璃。

鍍膜

        鍍膜是在表面鍍上非常薄的透明薄膜。當光線進入不同傳遞物質時(如由空氣進入玻璃),大約有5%會被反射掉,在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡,整個加起來可以讓入射光線損失達30%至40%,F(xiàn)代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜,單層增透膜可使反射減少至1.5%,多層增透膜則可讓反射降低至0.25%,所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜,光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色,鍍多層增透膜的鏡片則呈淡綠色或暗紫色。

磁控濺射

        磁控濺射(英語:magnetron sputtering)是在濺射的基礎上,運用靶板材料自身的電場與磁場的相互電磁交互作用,在靶板附近添加磁場,使得二次電子電離出更多的氬離子,增加濺射效率。磁控濺射分為平衡式與不平衡式。這種技術應用于材料鍍膜。其中高功率脈沖磁控濺射(high-power impulse magnetron sputtering (HiPIMS)或high-power pulsed magnetron sputtering (HPPMS))近來使用較為普遍。


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